213nm纳秒激光器

Ekspla纳秒激光器NL200系列可配备532nm，355nm，266nm和213nm波长的谐波发生模块。出色的能量稳定性和广泛的波长选择使Ekspla NL200激光器成为光谱学、光声成像和遥感应用的完美工具。

所属品牌： 立陶宛EKSPLA

产品介绍

Ekspla纳秒激光器NL200系列可配备532nm，355nm，266nm和213nm波长的谐波发生模块。出色的能量稳定性和广泛的波长选择使Ekspla NL200激光器成为光谱学、光声成像和遥感应用的完美工具。机械稳定和气密密封的设计确保了213nm纳秒激光器组件的可靠运行和长寿命。再加之该213激光器短脉冲持续时间、可变重复频率、外部TTL触发和纳秒二极管泵浦等特性，NL200系列纳秒激光器对于脉冲激光沉积、透过面板的剥蚀或者对透明材料的内雕等需要高脉冲能量的应用拥有绝佳的性价比。

在保持恒定脉冲能量的同时连续调整重复频率、卓越的光束指向和能量稳定性使213高能量纳秒激光器成为微加工、打标、薄膜去除应用的首选。213nm ns激光器NL201，NL202和NL204具有接近高斯平滑光束轮廓，具有低值M₂<1.3和良好的可聚焦性，有利于LCD和OLED显示器修复等应用。Ekspla纳秒激光器紧凑轻便，使激光器易于运输，可有效节省宝贵的实验室空间。

Ekspla 213nm激光器1064nm基频光可输出高达4mJ的脉冲能量，266nm输出0.6mJ。213激光器在213nm输出脉冲能量0.2mJ。该213nm纳秒激光器NL201的最高频率可达2500Hz，NL202和NL204的最高频率为1000Hz。213高能量纳秒激光器的脉宽为7-10ns，M²<1.3，典型光束直径 0.7mm。

Ekspla 213nm激光器NL201，NL202和NL204的主要特点：

-在1064nm处高达4 mJ的脉冲能量（NL204）

-高达2500Hz的可变重复频率（NL201）

-可配备532nm，355nm，266nm和213nm波长的谐波发生模块

-<10ns脉冲持续时间

-电光Q开关

-风冷

-外部TTL触发

-使用REST API命令，通过键盘和/或在任何作系统上运行的任何控制器进行远程控制

Ekspla 213高能量纳秒激光器NL201，NL202和NL204的主要应用：

-材料加工

-LCD和OLED显示屏维修

-打标

-微加工

-雕刻

-激光沉积

-激光清洗

-烧蚀

-光谱学

-OPO泵浦

-遥感

Ekspla213nm ns激光器NL201，NL202和NL204的规格：

Ekspla纳秒激光器的型号	NL201	NL202		NL204
脉冲能量： @1064nm @532nm @355nm @266nm @213nm	0.9mJ 0.3mJ 0.2mJ 0.08mJ 0.04mJ	2mJ 0.9mJ 0.6mJ 0.2mJ 0.1mJ		4mJ 2mJ 1.3mJ 0.6mJ 0.2mJ
脉冲能量稳定性： @1064nm @532nm @355nm @266nm @213nm	＜0.5% ＜2.5% ＜3.5% ＜4% ＜5%
脉宽	7-10ns
功率漂移	±2%
脉冲重复率	0-2500Hz		0-1000Hz
光束空间剖面	近场和远场均接近高斯分布
椭圆率	1064nm时为0.9–1.1
M²	<1.3
光束发散角	＜3mrad
光束直径	0.7mm
光束指向稳定性（RMS）	＜10μrad
光学抖动	＜0.5ns
偏振	线性
Ekspla 213激光器的物理特性
激光头尺寸	164×320×93mm
电源尺寸	470×390×140mm
连接线	3m
213nm ns激光器的操作要求
冷却	风冷
环境温度	18-30 °C
相对湿度	20-80%（非冷凝）
电源要求	100–240VAC，单相，50/60 Hz
功耗	< 600W
清洁度	不低于ISO9级

Ekspla213nm纳秒激光器远场中的典型光束强度分布

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