电介质膜分束立方

电介质膜立方体由于使用多层电介质膜，可以减少光量的损失，有效的分束光线。电介质膜分束立方是立方体型半反射镜，垂直入射光束时，射出光的光轴不会有平行移动。

所属品牌： 日本OptoSigma

产品介绍

电介质膜立方分光镜是把白色光源或LED光源等的非偏振光相等地分束为透过光和反射光的立方体型的半反射镜。在白光或LED光源的宽波长谱区具有正确的分束特性。电介质膜立方体由于使用多层电介质膜，可以减少光量的损失，有效的分束光线。电介质膜分束立方是立方体型半反射镜，垂直入射光束时，射出光的光轴不会有平行移动。而且，入射光束与有效范围直径相同时，透过光或反射光不会渐晕或变小。

西格玛光机的电介质膜立方体半反射镜要求非偏振光入射，是因为：偏振光会破坏分光比例，电介质膜对P光和S光的反射/透射率不同（例如S光反射多，P光透射多）。若用线偏振光入射，会导致输出光强不稳定（如设计50:50分光，实际可能变成80:20）。非偏振光能均匀混合P和S分量，确保分光镜按设计比例工作。若需偏振光，需换用偏振分光镜（PBS）。

西格玛光机电介质膜分束立方CSMH型号汇总列表

型号	适用波长〔nm〕	A＝B＝C〔mm〕	透过率〔%〕（P偏光和S偏光的平均值）
CSMH-10-405	390〜410	10	平均50±3
CSMH-12.7-405	390〜410	12.7	平均50±3
CSMH-15-405	390〜410	15	平均50±3
CSMH-20-405	390〜410	20	平均50±3
CSMH-25-405	390〜410	25	平均50±3
CSMH-30-405	390〜410	30	平均50±3
CSMH-05-550	400〜700	5	平均50±5
CSMH-07-550	400〜700	7	平均50±5
CSMH-10-550	400〜700	10	平均50±5
CSMH-12.7-550	400〜700	12.7	平均50±5
CSMH-15-550	400〜700	15	平均50±5
CSMH-20-550	400〜700	20	平均50±5
CSMH-25-550	400〜700	25	平均50±5
CSMH-30-550	400〜700	30	平均50±5
CSMH-40-550	400〜700	40	平均50±5
CSMH-50-550	400〜700	50	平均50±5
CSMH-10-800	750〜850	10	平均50±5
CSMH-12.7-800	750〜850	12.7	平均50±5
CSMH-15-800	750〜850	15	平均50±5
CSMH-20-800	750〜850	20	平均50±5
CSMH-25-800	750〜850	25	平均50±5
CSMH-30-800	750〜850	30	平均50±5
CSMH-10-1400	1300〜1550	10	平均50±5
CSMH-12.7-1400	1300〜1550	12.7	平均50±5
CSMH-20-1400	1300〜1550	20	平均50±5

Optosigma CSMH电介质膜立方体分光镜技术指标

共同指标
材质	BK7
基材面型精度	λ/4
透过光束偏角	＜5′
镀膜	斜面多层电介质膜侧面4面防反射膜
入射角度	０°
分束比（反射：透过）	１：１
入射光的偏光条件	非偏振光 45°方向的直线偏光或圆偏光
激光损伤阈值	0.3J/cm2（脉冲宽10ns，重复频率20Hz）
表面质量	20－10
有效范围	外形尺寸85%的正方形的内切圆（A＝B＝C≦7mm：外形尺寸80%的正方形的内切圆）