日本西格玛光机薄膜计算软件Essential Macleod，可模拟薄膜的透过率，反射率以及色散等

从透过率和反射率的波长特性信息来决定镀膜的薄膜结构时，需要光学薄膜计算软件Essential Macleod。光学薄膜计算软件除薄膜的设计之外，也可以用于模拟改变实验条件时的镀膜的光学特性的变化。光学薄膜分析与设计软件Essential Macleod虽然是专业用的工具，但是初学者也可以使用这个具有直觉操作特征的光学薄膜设计软件。

日本SigmaKoki西格玛光机可提供由Thin Film Center Inc.开发的光学薄膜分析与设计软件Essential Macleod，其型号是EMS-1，方便用户实现光学薄膜特性的模拟，自动化计算，镀膜材料数据库和一些其他的计算和分析性能，通过菜单、对话框和窗口进行操作，这款光学薄膜设计软件适合用于各种光学薄膜设计需求‌，如抗反射涂层、高反射镜、分光镜、滤波片等。

- ［Essential Macleod］是关于光学薄膜［THIN-FILM OPTICAL FILTERS（光学薄膜）］等著作的著名作者Angus Macleod开发的Windows®专用的光学薄膜设计软件。

- 光学薄膜计算软件具有丰富的光学薄膜特性的模拟，自动化计算，镀膜材料的数据库等光学薄膜设计中需要的高水准的性能。

日本SigmaKoki西格玛光机光学薄膜计算软件Essential Macleod的注意事项：

- 与其它软件的相互作用有时可能会导致不能运行，推荐使用专用的PC机。

- 价格有时会随汇率，性能的升级等而产生变动，需求时，请联系我们问询。

〈开发商〉

Thin Film Center Inc.

2745 East Via Rotonda, Tucson, AZ 85716-5227

TEL: +1-520-322-6171 FAX: +1-520-325-8721

※Essential Macleod是Thin Film Center lnc.公司的标志和注册商标。

※Windows®是美国微软公司的注册商标。

以下是光学薄膜分析与设计软件Essential Macleod的部分功能展示：

光学薄膜特性的模拟：

- 薄膜的透过率和反射率的模拟

- 透过光和反射光相位变化的模拟

- 薄膜厚度的误差影响的模拟

- 群速度分散等的模拟

优化的自动计算：

- 透过率和反射率

- P和S偏光的相位变化

- 透过光和反射光的相位变化

镀膜材料的数据库：

- 主要镀膜材料的光学常数（n·k）的数据库

- 以多种情报为基础的数据库管理

- 从分光特性的实际测量值计算光学常数

- 镀膜材料的色散数据的制作

其他机能：

- 群速度分散的计算

- 薄膜电场分布解析

- 薄膜和玻璃基板组合时的透过率计算

动作环境

- IBM-PC及其兼容机

- MS-Windows®操作系统

- 硬盘的可用容量20MB以上

服务：

从购买之日起1年内支持免费版本升级。超过1年以上时，如果缔结会员合同，则可以继续支持免费版本升级。

选购件：

- 追加授权

（可用在另外一台电脑上运行。）

- 会员合同

（购买1年后，还可以再享受一年免费的服务。）